在濾光片的制作過程中，對于鍍膜濾光片而言，基底的清洗程度很大一方面決定了鍍膜產品質量的好壞，保障好光學元件鍍膜前的高潔凈度，是濾光片制作過程最重要的一步。基底在進入鍍膜前需要經過清洗處理達到去油、去污和脫水，才能有效提高膜層之間的牢固度。

以一般清洗行業，根據清洗劑不同一般分為濕式清洗和干式清洗，對于鍍膜的濾光片行業而言，一般對鍍膜前基底的清洗方式主要分為物理清洗與化學清洗，物理清洗為去除基底表面的附著物，如灰塵、粉塵?；瘜W清洗即去除基底表面的化學附著物，即油跡。以下為光學濾光片的四種清洗方式！

一、擦拭清洗

一般擦拭清洗兼具機械摩擦與化學作用除污效果最好，濾光片在轉入鍍膜加工前，一般在擦拭清洗前配以超聲波清洗幾分鐘，再用離子水在沖洗效果更好。

基底在經過拋光后，表面可能存在一些拋光后留下的粘附性顆粒物及油污，所以需要在鍍膜前，需要將濾光片基底浸泡在丙酮或其他清洗劑一段時間，然后用脫脂棉蘸在基底表面進行擦拭。如鍺、石英、藍寶石等基地材料通常用蘸有丙酮的脫脂棉擦拭，再用蘸有清洗劑的脫脂棉擦拭清洗。

二、超聲波清洗

超聲波清洗一般采用超聲空化作用、超聲空化二階效應產生的微聲流進行洗刷，以及超聲空化在固液界面產生高速微流進行沖擊清洗，從而達到高速、高效、自動化清洗。濾光片在進行真空鍍膜前對基底表面潔凈度要求較高，一般需要根據污染物種類選擇不同的超聲波頻率和不同的清洗介質，清洗頻率一般多在20-80k Hz范圍，同時對媒介進行加溫，清洗介質可以符合選取張力小，對超聲波衰減小，對油脂溶解力大，無害物質等條件的介質，或選擇離子水、中性清洗劑、異丙醇、丙酮等。

三、汽相清洗（蒸汽清洗）

蒸汽清洗也叫有機溶劑蒸汽清洗，通過有機溶劑蒸發-液化冷凝到濾光片基底-溶解污物，從而達到清洗基底保持高潔凈度的效果，蒸汽清洗裝置的清洗槽經過有機溶劑141B加熱沸騰后形成大量蒸汽，使得上部空間的有機溶劑蒸汽在基底冷凝液化，使得基底表面污物溶解，在重力作用下隨著含有污垢的液體從被清洗的基底表面向下流動進入液相溶劑中。

四、離子束清洗

濾光片在鍍膜前經過清洗后轉入真空室過程時，在基底裝入鍍膜設備真空室和蒸鍍前可能存在二次污染，這個過程就需要對基底進行最后一道離子束清洗，離子束清洗的原理便是通過高能離子束轟擊下將吸附或粘附在基片上的污垢進行脫離或通過高熱能氧離子氧化污物分子從而讓污垢在離子碰撞下脫離基片。

鍍膜前的濾光片清洗通常采用擦拭和超聲波換用不同的清潔劑進行交叉清洗 ，再用離子水沖洗后輔以汽相清洗以滿足鍍膜前的清潔要求。